6日发表在英国《自然》杂志网络版上的研究说，这个由美国、中国和丹麦科研人员组成的团队合成出首个纳米尺寸上的绝缘硅分子，可有效防止晶体管缩小后产生的泄漏电流。

　　研究人员说，电流泄漏的原因是“量子隧穿效应”，这种效应导致电子等微观粒子能够穿过它们本来无法通过的“墙壁”。研究人员曾认为真空屏蔽能让晶体管之间绝缘，但当两个金属电极距离近到一定程度时，仍然会发生电流泄漏。这项新研究显示，硅分子绝缘体比相同尺寸的真空屏蔽具有更好的绝缘性。